【INC國際大咖研究成果】激光消融下丘腦錯構(gòu)瘤后丘腦大規(guī)模電路的術(shù)中變化
發(fā)布時間:2025-03-24 11:46:50 | 閱讀:次| 關(guān)鍵詞:激光消融下丘腦錯構(gòu)瘤后丘腦大規(guī)模電路的術(shù)中變化
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INC國際兒童腦瘤大咖、世界神經(jīng)外科聯(lián)合會(WFNS)執(zhí)行委員會&顧問委員會成員之一的James T. Rutka教授發(fā)表研究《Intraoperative changes in large-scale thalamic circuitry following laser ablation of hypothalamic hamartomas》(激光消融下丘腦錯構(gòu)瘤后丘腦大規(guī)模電路的術(shù)中變化),以下是研究簡述。
01. 摘要
由下丘腦錯構(gòu)瘤引發(fā)的笑性發(fā)作在治療上存在較大難度,部分原因在于對癲癇發(fā)作傳播通路的理解尚不充分。磁共振成像引導(dǎo)下的激光間質(zhì)熱療(MRgLITT)是一種很有前景的干預(yù)手段,可以切斷下丘腦錯構(gòu)瘤與癲癇發(fā)作傳播網(wǎng)絡(luò)的連接,但實現(xiàn)無發(fā)作的最佳消融部位尚不清楚。在本研究中,我們通過觀察術(shù)中消融后靜息態(tài)功能連接的變化,來識別與成功切斷下丘腦錯構(gòu)瘤相關(guān)的大型網(wǎng)絡(luò)。
02. 研究方法
隨訪時間至少為一年。無發(fā)作狀態(tài)定義為最后一次隨訪時Engel評分為1A。在保持全身麻醉深度恒定的情況下,分別獲取了術(shù)前和術(shù)后的靜息態(tài)功能磁共振成像(fMRI)掃描。研究中使用多變量廣義線性模型來識別與發(fā)作結(jié)果相關(guān)的大規(guī)模連接術(shù)中變化。
03. 研究結(jié)果
共有 12 名患者接受了針對下丘腦錯構(gòu)瘤(HH)的磁共振成像引導(dǎo)激光間質(zhì)熱療(MRgLITT),其中 5 名患者在最后一次隨訪時達到了無發(fā)作狀態(tài)。術(shù)中丘腦皮質(zhì)回路的變化,特別是涉及前扣帶皮層的變化,與無發(fā)作相關(guān)。無發(fā)作的患者表現(xiàn)出與前扣帶回前部(pregenual)和背側(cè)前扣帶回皮層的連接性分別增加和減少。此外,無發(fā)作的患者在 MRgLITT 后立即表現(xiàn)出丘腦與導(dǎo)水管周圍灰質(zhì)的連接性增加。
04. 研究結(jié)論
我們的研究表明,在針對下丘腦錯構(gòu)瘤(HH)的磁共振成像引導(dǎo)激光間質(zhì)熱療(MRgLITT)后,立即出現(xiàn)了大規(guī)模功能網(wǎng)絡(luò)連接性的顯著變化。無發(fā)作狀態(tài)與術(shù)后丘腦皮質(zhì)連接性增加至前扣帶回前部(pACC)以及與背側(cè)前扣帶回皮層(dACC)的連接性降低相關(guān),這表明乳頭丘腦束的扣帶投射在發(fā)作傳播中可能存在拓?fù)洳町?。此外,只有無發(fā)作(SF)患者表現(xiàn)出丘腦與導(dǎo)水管周圍灰質(zhì)的連接性增加,而導(dǎo)水管周圍灰質(zhì)是腦干中已知調(diào)節(jié)自主行為反應(yīng)(包括笑)的區(qū)域。因此,我們的發(fā)現(xiàn)也為支持導(dǎo)水管周圍灰質(zhì)的高級抑制作用作為凝膠樣癲癇發(fā)作的潛在機制提供了證據(jù)。盡管這些結(jié)果需要在更大的隊列中進行驗證,但它們可能有助于指導(dǎo) MRgLITT 的手術(shù)方法,使用術(shù)中功能磁共振成像(fMRI)來調(diào)整靶點并定義基于網(wǎng)絡(luò)的消融終點。
圖1. 一位患者接受下丘腦錯構(gòu)瘤磁共振成像引導(dǎo)激光間質(zhì)熱療(MRgLITT)的代表性示例?;颊呤紫仍谑中g(shù)室接受激光消融探針的立體定向插入,隨后被安置在磁共振成像(MRI)掃描儀中。在全身麻醉下獲取術(shù)前靜息態(tài)功能磁共振成像(fMRI)掃描,隨后進行磁共振引導(dǎo)的錯構(gòu)瘤激光消融?;颊唠S后在同一深度的全身麻醉下接受立即的術(shù)后靜息態(tài)fMRI掃描。之后在手術(shù)室移除消融探針。靜息態(tài)fMRI數(shù)據(jù)隨后經(jīng)過預(yù)處理,并計算雙側(cè)丘腦感興趣區(qū)(ROIs)與大腦其余部分之間的基于種子點的功能連接。
圖2. 術(shù)前消融前靜息態(tài)丘腦皮質(zhì)連接性的差異,比較了最終實現(xiàn)長期無發(fā)作(SF)和未實現(xiàn)長期無發(fā)作(NSF)的患者。SF 患者表現(xiàn)出雙側(cè)丘腦與右側(cè)頂葉和顳葉皮層之間的連接性顯著更高,而 NSF 患者則表現(xiàn)出術(shù)前雙側(cè)丘腦與扣帶皮層之間的連接性更高。
圖3.下丘腦錯構(gòu)瘤磁共振成像引導(dǎo)激光間質(zhì)熱療(MRgLITT)后雙側(cè)丘腦與全腦的功能連接變化。 (a)無發(fā)作(SF)患者表現(xiàn)出雙側(cè)丘腦與前扣帶皮層、輔助運動區(qū)和頂顳皮層之間的連接性顯著降低,同時與導(dǎo)水管周圍灰質(zhì)的連接性增加。非無發(fā)作(NSF)患者表現(xiàn)出雙側(cè)丘腦與外側(cè)額葉和顳葉皮層之間的連接性降低,且術(shù)后未見顯著的連接性增加。 (b)無發(fā)作患者表現(xiàn)出雙側(cè)丘腦與乳頭丘腦束的投射區(qū)域(包括初級體感皮層、緣上回和前扣帶回前部)之間的連接性顯著增加,但與背側(cè)前扣帶皮層的連接性降低,與非無發(fā)作患者相比差異顯著。

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